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杨静凯

学位 : 博士学位
学历 : 博士研究生毕业
出生年月 : 1986-03
入职时间 : 2014-05-06
毕业院校 : 燕山大学

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标题：

Evolution of element distribution at the interface of FTO/SiOxCy films|with X-ray photoelectron spectroscopy

点击数：

作者：

杨静凯,赵洪力

所属单位：

310

发表时间：

2014-10-15

论文类型：

期刊论文

Issn号：

1873-4979

是否译文：

否

项目来源：

国家自然科学基金项目

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